Вольфрамовая кислота XPS

Вольфрамовая кислота XPS - это метод химического анализа поверхности, метод количественной спектроскопии, который используется для проверки элементов, эмпирической формулы вольфрама, а также химического и электронного состояния вольфрамовых элементов в нем. Рентгеновские спектры получают, облучая материал пучком рентгеновских лучей, одновременно измеряя кинетическую энергию и количество электронов, которые выходят из верхних 0-10 нм анализируемой вольфрамовой кислоты. XPS требует условий высокого вакуума (P ~ 10-8 миллибар) или сверхвысокого вакуума (UHV; P < 10-9 миллибар), хотя в настоящее время разрабатывается область XPS при атмосферном давлении, в которой образцы анализируются под давлением несколько десятков миллибар.

XPS можно использовать для анализа химического состава поверхности материала в состоянии его получения или после некоторой обработки, например: разрушение, резка или соскабливание на воздухе или в сверхвысокочастотном поле для выявления химического состава в объеме, травление ионным пучком для очистки некоторых или всех поверхностных загрязнений (с мягким ионным травлением) или для преднамеренного воздействия более глубоких слоев образца (с более интенсивным ионным травлением) на XPS с профилированием по глубине, воздействия тепла для изучения изменений, вызванных нагрев, воздействие реактивных газов или растворов, воздействие ионно-лучевого имплантата, воздействие ультрафиолетового света.

XPS также известен как ESCA (Электронная спектроскопия для химического анализа), аббревиатура, введенная исследовательской группой Кая Зигбана для выделения химической (а не просто элементарной) информации, которую предоставляет методика. В принципе XPS обнаруживает все элементы. На практике, используя типичные лабораторные источники рентгеновского излучения, XPS обнаруживает все элементы с атомным номером (Z) от 3 (литий) и выше. Он не может легко обнаружить водород (Z = 1) или гелий (Z = 2).

Любая обратная связь или запрос вольфрамовой кислоты, пожалуйста, свяжитесь с нами: